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预清室的微粒污染防止方法

摘要

一种预清室的微粒污染防止方法,包括一提供氧气至预清室中的氧气提供步骤;及一利用无线电波频率将该预清室中的氧气解离成等离子,并使其与该富含硅氧化物反应,据以于该预清室内形成一二氧化硅层的等离子产生步骤。藉由本发明的预清室的微粒污染防止方法则可避免因附着于一预清室中的富含硅氧化物快速剥离所造成的污染,进而达到延长预清室的钟型缸使用时间的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN1374412A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2002-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 矽统科技股份有限公司;

    申请/专利号CN01110993.9

  • 发明设计人 郭家铭;黄昭元;

    申请日2001-03-09

  • 分类号C23C14/02;

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陶凤波

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区

  • 入库时间 2023-12-17 14:27:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2004-12-29

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2003-01-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2002-10-16

    公开

    公开

  • 2001-10-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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