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测量轴的变形对化学机械抛光工艺进行实时控制

摘要

描述了一种用来探测薄膜清除工艺的终点的方法和装置,其中用具有连接到轴的抛光表面的抛光装置来清除薄膜。探测了由抛光表面上的摩擦力引起的扭矩导致的轴的变形。用安装在轴上的传感器,或借助于监测从轴上二个点反射的光信号之间的相位差,来执行此探测。根据轴的变形而产生信号。信号的变化表明扭矩的变化,从而表明薄膜清除工艺的终点。此装置允许实时原位监测和控制薄膜清除工艺。

著录项

  • 公开/公告号CN1280049A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2001-01-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国际商业机器公司;

    申请/专利号CN00120454.8

  • 发明设计人 李乐平;王新辉;

    申请日2000-07-11

  • 分类号B24B49/10;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王永刚

  • 地址 美国纽约

  • 入库时间 2023-12-17 13:50:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-09-14

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B49/10 授权公告日:20031029 终止日期:20100711 申请日:20000711

    专利权的终止

  • 2003-10-29

    授权

    授权

  • 2001-01-17

    公开

    公开

  • 2000-12-13

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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