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利用热CVD法在大尺寸基片上大规模合成垂直排列的高纯碳纳米管的方法

摘要

一种利用热化学汽相淀积(CVD)在大尺寸基片上合成垂直排列的高纯碳纳米管的方法。该合成方法中,通过腐蚀在基片上形成隔离的纳米级催化金属颗粒,并通过利用碳源气的热CVD,由催化金属颗粒生长垂直排列的净化碳纳米管。

著录项

  • 公开/公告号CN1277145A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2000-12-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 李铁真;株式会社日进纳米技术;

    申请/专利号CN00107805.4

  • 发明设计人 李铁真;柳在银;

    申请日2000-06-12

  • 分类号C01B31/02;C23C16/26;

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人甘玲

  • 地址 韩国全罗北道

  • 入库时间 2023-12-17 13:46:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-06

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C01B31/02 授权公告日:20050216 终止日期:20130612 申请日:20000612

    专利权的终止

  • 2005-02-16

    授权

    授权

  • 2000-12-20

    公开

    公开

  • 2000-11-01

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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