法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-09-18
专利权有效期届满 IPC(主分类):C08L101/00 授权公告日:20050223 申请日:19980825
专利权的终止
2008-04-30
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 变更前: 变更后: 申请日:19980825
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2005-02-23
授权
授权
2000-08-09
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
1999-12-01
公开
公开
机译: 耐热性是介电系数薄膜的低形成方式,耐热性低是使用由介电系数构成的半导体层绝缘膜的半导体设备和该半导体层绝缘膜
机译: 具有良好的耐热性和储存稳定性的聚合物,包含该聚合物的下层膜组合物以及使用该组合物形成下层膜的方法
机译: 具有良好的耐热性和储存稳定性的新型聚合物,包含该聚合物的下层膜组合物以及使用该组合物形成下层膜的方法