首页> 中国专利> 包括设备组件例如等离子发生源、真空泵送设备和/或悬臂基片支承件的通用真空室

包括设备组件例如等离子发生源、真空泵送设备和/或悬臂基片支承件的通用真空室

摘要

一种其中可拆卸地装有基片支承件的真空处理室。该室的侧壁中包括一个孔口,该孔口大得足以让基片支承件从中通过而从室中取出。一个组合安装装置延伸得穿过该孔口并在朝向室的内侧壁处可拆卸地支承着室内的基片支承件。该安装装置包括安装凸缘和支承臂。安装凸缘连接在室的外表面上,支承臂延伸在基片支承件与安装凸缘之间。该室包括与基片支承件隔开的位于室的端壁中央部位的一个单个真空口。该真空口连接着从室内抽取气体的真空泵,且将室保持在低于大气压的压力状况下。基片支承件由于能从室的侧壁中取出而便于维修或替换。装有基片支承件的侧壁也使得一个大真空口位于室的端壁中,因此,将该真空口与大容量真空泵连接而达到高流动。室还包括组合衬圈、组合等离子发生源及组合真空泵送装置,它们中每一种均可用可互换装置替换。

著录项

  • 公开/公告号CN1225747A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1999-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 兰姆研究公司;

    申请/专利号CN97195274.4

  • 申请日1997-06-02

  • 分类号H01J37/16;H01L21/00;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人张祖昌

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2023-12-17 13:25:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J37/16 授权公告日:20030910 终止日期:20160602 申请日:19970602

    专利权的终止

  • 2003-09-10

    授权

    授权

  • 1999-08-18

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1999-08-11

    公开

    公开

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