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在陶瓷上形成大理石纹饰的方法

摘要

本发明公开了一种在陶瓷上形成大理石纹饰的方法,此方法重点在于上釉过程,包含提供一高密度、粘度小、高稠度的底釉,然后将比重小、粘度大、低稠度的面釉缓缓倒入底釉中,由于两种釉比重及粘度的落差,面釉在底釉中未立即分解,并漂浮于底釉的表层。接着划动釉面使其产生大理石纹,然后将素烧胚部分浸于釉中滚转一圈,使釉彩覆于胚上,完成上釉程序后在高温中烧制即产生大理石纹。

著录项

  • 公开/公告号CN1218020A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1999-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 协和陶瓷厂股份有限公司;

    申请/专利号CN97122999.6

  • 发明设计人 余万居;

    申请日1997-11-25

  • 分类号C04B41/86;

  • 代理机构上海专利商标事务所;

  • 代理人竺路玲

  • 地址 台湾省苗栗县头份镇芦竹里四邻80号

  • 入库时间 2023-12-17 13:21:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2001-03-07

    专利申请的视为撤回

    专利申请的视为撤回

  • 1999-06-02

    公开

    公开

  • 1998-05-13

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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