光学玻璃平面超精密研抛方法及设备

摘要

本发明公开一种光学玻璃平面超精密研抛方法及其设备,即精密研抛机采用纯锡研磨盘,方法的关键在于,被加工件用胶带粘贴于夹具上,研磨盘为纯锡制成,表面与试件加工作业面为凸起环形带状,环带宽度为试件直径的80～95%,研磨液为粒度直径在70A以上的SiO2与纯净水悬浮液,本发明所述方法,可使Φ100mm光学玻璃经3小时研磨达到λ/20平面精度。