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在至少一个底物表面上生成一层的方法和设备

摘要

一种通过化学气相沉积(CVD)由一种过程气流(5)在一个底物(2)表面(20)生成一个层(6)的方法和设备,在CVD过程中将一种过程气流(5)引向至少保持900℃的底物(2)表面(20)。由过程气流在底物上沉积出层(6)。过程气流的方向至少基本上反向平行于重力。因此,热浮托力不再对此过程有干扰作用。

著录项

  • 公开/公告号CN1170048A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1998-01-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西门子公司;

    申请/专利号CN97109726.7

  • 发明设计人 罗兰·鲁普;约翰尼斯·沃尔考;

    申请日1997-04-24

  • 分类号C23C16/00;C23C16/30;C30B25/00;

  • 代理机构柳沈知识产权律师事务所;

  • 代理人杨梧

  • 地址 联邦德国慕尼黑

  • 入库时间 2023-12-17 12:56:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2003-04-30

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 1999-07-28

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1998-01-14

    公开

    公开

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