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在高反射膜堆叠上的高吸收膜层的光学测量

摘要

本文描述了用于以改进的测量灵敏度来对高吸收膜(例如,高K介电膜)执行基于光学的膜厚度测量的设备和方法。在高反射膜堆叠的顶部上制造高吸收膜层。高反射膜堆叠包含一组或多组名义上相同的多层不同的光学对比材料。高反射膜堆叠在特定的波长范围内引起光学共振。高吸收膜层和高反射膜堆叠的界面处的高反射率提高了被测光强度和测量灵敏度。选择高反射膜堆叠的不同材料层的厚度和光学色散以在期望的波长范围内引起光学共振。选择期望的波长范围以将被测量的高吸收膜的吸收最小化。

著录项

  • 公开/公告号CN111183509A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201880064327.1

  • 发明设计人 C·L·伊加图亚;S·克里许南;

    申请日2018-10-08

  • 分类号H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘丽楠

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 11:49:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-19

    公开

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