一种提升容值的补偿电容结构及制作方法

摘要

本发明提供一种提升容值的补偿电容结构及制作方法，其中制作方法包括如下步骤：在基板上制作第一极板金属和第一栅极金属；制作第一绝缘层；制作第二半导体层；制作第二绝缘层；制作第二极板金属和第二极板金属；制作第三绝缘层；在第三绝缘层上制作连通第一极板金属的第二过孔，在第三绝缘层上制作连通第二半导体层的第三过孔；制作第三极板金属和源漏极金属。上述技术方案制作第三极板金属、第二极板金属和第一极板金属形成两个电容，分别为第一极板金属与第二极板金属、第二极板金属与第三极板金属。两个电容可以为器件带来更大的电容值，在电容值增大后，可以有效改善画面均一性，提升显示质量。