背压气路装置、反应腔室基座背压控制方法及反应腔室

摘要

本发明公开了一种背压气路装置、反应腔室基座背压控制方法及反应腔室。背压气路装置包括供气管路、背吹气路、背吹旁路和控制单元，背吹气路的进气端，背吹气路的出气端用于向基座供给背吹气体；背吹旁路的两端分别连通供气管路的出气端和反应腔室，用于将供气管路中的气体输送至反应腔室；供气管路的进气端设有质量流量控制器，背吹气路上设置有第一压力检测单元；控制单元用于计算背吹压力值与预设压力值的差值，并基于差值计算供气管路的气体流量输出值后反馈给质量流量控制器；质量流量控制器根据气体流量输出值控制通入背吹气体的流量，以使第一压力检测单元检测的背吹压力值保持在预设压力值。能够实现精确控制晶片的背压。