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一种具有空穴注入结构电子阻挡层的发光二极管

摘要

本发明公开了一种具有空穴注入结构电子阻挡层的发光二极管,包括:由下向上依次设置的衬底、氮化物缓冲层、n型氮化物层、多量子阱有源区、空穴注入结构电子阻挡层、p型氮化物层、透明导电层,还包括设置在所述n型氮化物层上的n型电极,以及设置在所述透明导电层上的p型电极。本发明空穴注入结构电子阻挡层的发光二极管实现有源区与电子阻挡层之间的应力匹配,有效抑制电子的泄露,同时降低Mg扩散进入有源区的概率,进而提升LED的发光效率;提高空穴的纵向迁移能力,从而显著提升空穴注入效率;异质结界面处的极化电场在空穴注入层一侧形成的二维空穴气,改善电流的拥堵效应。

著录项

  • 公开/公告号CN111599902A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东南大学;

    申请/专利号CN202010578531.4

  • 发明设计人 张雄;沈阳;胡国华;崔一平;

    申请日2020-06-23

  • 分类号H01L33/14(20100101);H01L33/04(20100101);H01L33/06(20100101);

  • 代理机构32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人柏尚春

  • 地址 211102 江苏省南京市江宁区东南大学路2号

  • 入库时间 2023-12-17 11:45:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-28

    公开

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