首页> 中国专利> 氧等离子体处理的硒氧化铋纳米片光电探测器及制备方法

氧等离子体处理的硒氧化铋纳米片光电探测器及制备方法

摘要

本发明属于光电探测相关技术领域,其公开了一种氧等离子体处理的硒氧化铋纳米片光电探测器及制备方法,所述制备方法包括以下步骤:(1)采用化学气相沉积方法在衬底上制备硒氧化铋纳米片;(2)采用激光直写或者电子束曝光技术,结合热蒸发及电子束蒸发在所述硒氧化铋纳米片上制备一对源漏金属电极;(3)对所述硒氧化铋纳米片进行氧等离子体处理,由此得到硒氧化铋纳米片光电探测器。本发明采用等离子体处理的方法,可以使得硒氧化铋纳米片的初始暗态电流下降,可以增大器件的光响应,且制备方法工艺简单,操作容易,成本较低,有望应用于大规模改善硒氧化铋纳米片光电探测器的性能,为硒氧化铋在光电探测器的应用奠定了基础。

著录项

  • 公开/公告号CN111463295A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN202010291662.4

  • 发明设计人 诸葛福伟;熊绪婧;翟天佑;

    申请日2020-04-14

  • 分类号

  • 代理机构华中科技大学专利中心;

  • 代理人孔娜

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2023-12-17 11:36:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0216 申请日:20200414

    实质审查的生效

  • 2020-07-28

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号