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多区立式炉的实时监视与及早识别热区元件的失效

摘要

本发明旨在帮助避免在热处理时的晶片损失。晶片具有每批高达150000欧元的价值。因此,应不再出现用于处理晶片的热学装置的意外失效。监控用于对晶片组或晶片批次进行容纳和退火的(多个)热学装置100的所提出的方法在热学装置的多个加热区1′、2′、3′、4′、5′中的至少一个加热区1′中使用对电阻值R1持续施加的测量。将在所属的加热区1′中的电阻1的各当前测量的值R1(i)与同一电阻1的之前测量的值R1(i‑1)进行比较。在出自相同的加热区1′的两个电阻值通过比较检测出偏差ΔRi的情况下就已生成用于热学装置100的警告或警报90,所述警告或警报在时间上处于在热学装置100中的整个加热区1失效之前。另一目的是资源的更好的可规划性。

著录项

  • 公开/公告号CN111433547A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 X-FAB半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201880062066.X

  • 发明设计人 斯文·格吕贝尔;

    申请日2018-09-25

  • 分类号F27B17/00(20060101);G01R31/28(20060101);F27D21/00(20060101);H01L21/67(20060101);H04M3/08(20060101);H05B3/14(20060101);G01R31/54(20200101);G01R31/72(20200101);F27D19/00(20060101);

  • 代理机构11697 北京允天律师事务所;

  • 代理人李建航;高源

  • 地址 德国爱尔福特市

  • 入库时间 2023-12-17 11:24:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-17

    公开

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