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一种变形体岩层内限制桩基础水平位移的结构及施工方法

摘要

本发明公开了一种变形体岩层内限制桩基础水平位移的结构及施工方法,涉及桩基础施工技术领域,解决了现有技术中的施工措施无法应对千枚岩地层造成桩基础水平位移的技术问题。该结构包括抗变形结构与缓冲结构,抗变形结构为设置于桩基础外周的锚入非变形体岩层内的环形结构,缓冲结构设置于桩基础与抗变形结构之间。本发明在变形体岩层范围内设置锚入非变形体岩层内的环形抗变形结构,在桩基础与环形抗变形结构之间设置缓冲结构,一方面通过抗变形结构防止变形体岩层位移直接对桩基础造成的水平位移,另一方面通过缓冲结构对抗变形结构的位移进行缓冲,从而允许变形体岩层在一定范围内变形,有效的限制了变形体岩层内桩基础的水平位移。

著录项

  • 公开/公告号CN111501739A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010460976.2

  • 发明设计人 张生;袁松;王希宝;

    申请日2020-05-27

  • 分类号E02D5/38(20060101);E02D5/60(20060101);E02D5/66(20060101);E02D15/04(20060101);E02D27/12(20060101);

  • 代理机构51220 成都行之专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人牟应龙

  • 地址 610000 四川省成都市太升北路35号

  • 入库时间 2023-12-17 11:24:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-07

    公开

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