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用微波等离子体技术生长单晶钻石的基片台及生长方法

摘要

本发明提供了一种用微波等离子体技术生长单晶钻石的基片台,包含一呈圆形的微波等离子体基片台,所述基片台的上方紧贴着基片台表面有微波激发的一球形等离子体,所述基片台表面轴对称中心处有一个凹坑,该凹坑中能放置一个用于钻石生长的晶托。凹坑底部环绕晶托有一环形的金属细管,细管上有小孔,细管连接供气系统,细管中的气体流量通过气体流量计进行控制。凹坑顶部环绕晶托有一环形的金属细管,细管上有小孔,细管连接抽气系统,细管中的气体流量通过气体流量计进行控制。该方案能避免晶种侧面堆积的非金刚石碳影响到晶种上表面钻石的正常生长,同时能提高晶种表面生长速度。

著录项

  • 公开/公告号CN111519248A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海征世科技有限公司;

    申请/专利号CN202010244818.3

  • 发明设计人 满卫东;龚闯;朱长征;吴剑波;

    申请日2020-03-31

  • 分类号C30B29/04(20060101);C30B25/12(20060101);

  • 代理机构31253 上海精晟知识产权代理有限公司;

  • 代理人周琼

  • 地址 201799 上海市青浦区华浦路500号2幢西侧

  • 入库时间 2023-12-17 11:07:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-11

    公开

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