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一种基于时空协同变换曝光提高光刻分辨率的方法

摘要

本发明公开了一种基于时空协同变换曝光提高光刻分辨率的方法,涉及DMD器件成像曝光领域,包括将平台微移动、DMD图形变换和曝光能量调节三种动态量进行协同匹配,形成时空协同变换的曝光方式提高光刻分辨率,通过将时空协同变换技术应用于DMD投影光刻,可以在不降低DMD微镜尺寸或投影透镜放大率的情况下显著改善光刻图案的边缘平滑度,利用CAD量化图形,再用matlab提取子图,结合压电平台微位移同时控制曝光能量进行子图错位叠加曝光,在提高光刻图形边缘的平滑度的同时,可以准确控制图形线宽。

著录项

  • 公开/公告号CN111562725A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东北师范大学;

    申请/专利号CN202010502150.8

  • 发明设计人 刘华;郭书平;

    申请日2020-06-04

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构51250 成都时誉知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人田高洁

  • 地址 130000 吉林省长春市人民大街5268号

  • 入库时间 2023-12-17 10:58:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-21

    公开

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