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公开/公告号CN111495880A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-08-07
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉大学;
申请/专利号CN202010252424.2
发明设计人 刘胜;东芳;甘志银;周振;
申请日2020-04-01
分类号B08B7/00(20060101);B08B7/04(20060101);C23C16/44(20060101);
代理机构42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人姜学德
地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学
入库时间 2023-12-17 10:50:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-07
公开
机译: 等离子炬头的喷嘴,激光切割头和等离子激光切割头,装置,等离子炬头和自相同等离子炬,自相同激光切割头和自相同等离子体激光切割头
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