一种用于陶瓷托槽的新抛光工艺机器

摘要

本发明公开了一种用于陶瓷托槽的新抛光工艺机器，包括支撑架和底座，所述支撑架固设在所述底座的顶面上，所述支撑架的前侧设有能用来滚动抛光陶瓷托槽以及间歇性排水的滚动抛光机构，所述滚动抛光机构包括两个转动设在所述支撑架前侧面上的支撑块，位于右侧所述支撑块的左侧面上转动设有旋转台，所述旋转台左侧面上固设有滚筒，所述滚筒内开设有开口向左的滚筒腔，本发明通过两种抛光方式，包括陶瓷托槽和混合液的滚动抛光以及打磨皮的左右来回摩擦抛光，来使陶瓷托槽表面更加具有光泽度，并且装置能够自动进行转换不同抛光机构运行，极大的节省了人工劳动力。