一种多层CVD金刚石锥阵列抛光工具的制备方法

摘要

一种多层CVD金刚石锥阵列抛光工具的制备方法，其特征是它包括以下步骤：首先使用砂纸打磨衬底表面以去除表面氧化层和油污，并采用特定激光参数对衬底表面进行织构，得到沟槽结构，接着对衬底进行“喷砂—超声清洗—植晶—清洗吹干”的预处理步骤，然后将处理得到的衬底置于CVD设备中进行金刚石涂层制备，待沉积上一层金刚石薄膜后，改变参数刻蚀出金刚石纳米锥结构阵列，再将其放置物理气相沉积设备中溅射一层过渡层，重复以上操作，制备出具有多层结构的CVD金刚石锥阵列抛光工具。本发明具有磨粒分布均匀、等高性好的优点，且多层结构保证了磨粒自锐性，有利于增强抛光性能和提高抛光效率。