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近零厚度纳米孔制备及DNA测序方法

摘要

本发明涉及一种近零厚度纳米孔制备及DNA测序方法,属于纳米技术领域。该方法包括以下步骤:S1:近零厚度纳米孔制备;S2:近零厚度纳米孔DNA单碱基识别。本发明基于近零厚度纳米孔具有亚纳米孔的高空间分辨率,而且可以通过大规模半导体的生产工艺来实现,所以其具有很强的创新性和实用性,能够极大地推动基于纳米孔的DNA测序技术和蛋白质检测技术开发,有着很大的基础研究价值和潜在的实际应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN111440855A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010266327.9

  • 发明设计人 王德强;何石轩;周大明;

    申请日2020-04-07

  • 分类号

  • 代理机构北京同恒源知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨柳岸

  • 地址 400714 重庆市北碚区方正大道266号

  • 入库时间 2023-12-17 10:29:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):C12Q1/6869 申请日:20200407

    实质审查的生效

  • 2020-07-24

    公开

    公开

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