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一种硅片刻蚀设备上的矫正机构及矫正方法

摘要

本发明公开了一种硅片刻蚀设备上的矫正机构,涉及硅片生产设备技术领域,包括:基座、支撑座、传送辊、驱动装置、传送带、载片台、滑座、矫正机构、导向轮。通过载片台的触发板推动矫正机构的被动部方式,使直径小于转柱的第一齿轮在转柱上的传动齿下带动旋转(根据机械传动系统中传动比原则,相当于小齿轮的第一齿轮旋转角度会大于相当于大齿轮的转柱旋转角度),导向轮在与第一齿轮相连的转动部带动下沿硅片弧形端面进行由前向后的弧形方向移动,实现了硅片前后及左右位置的矫正。此外,第二齿轮在转动部的转动下,其沿连接齿进行旋转,从而带动导向轮旋转,使得导向轮与硅片的静摩擦变为动态摩擦,大大降低了导向轮对硅片的磨损伤害。

著录项

  • 公开/公告号CN111244006A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州赛森电子科技有限公司;

    申请/专利号CN202010232443.9

  • 发明设计人 伍志军;

    申请日2020-03-28

  • 分类号

  • 代理机构苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司;

  • 代理人吴筱娟

  • 地址 215600 江苏省苏州市张家港市福新路2号B06一楼赛森电子

  • 入库时间 2023-12-17 10:08:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/677 申请日:20200328

    实质审查的生效

  • 2020-06-05

    公开

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