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一种ZnO/InGaN异质结发光二极管及其制备方法

摘要

本发明公开了一种ZnO/InGaN异质结发光二极管及其制备方法,该发光二极管包括p‑InGaN衬底、ZnO:Ga微米线,p‑InGaN衬底上制备有合金薄膜电极,ZnO:Ga微米线紧贴在p‑InGaN衬底上,且不接触合金薄膜电极,ZnO:Ga微米线与p‑InGaN衬底构成n‑ZnO:Ga/p‑InGaN异质结构,ZnO:Ga微米线远离合金薄膜电极的一端附着有Ag薄膜电极;该发光二极管的制备方法包括以下步骤:(S1)在p‑InGaN衬底上沉积合金薄膜电极;(S2)在n‑ZnO:Ga微米线一端的侧面上沉积Ag薄膜电极;(S3)将镀有Ag薄膜电极的单根n‑ZnO:Ga微米线的面向上紧贴在p‑InGaN衬底上,确保n‑ZnO:Ga微米线不和合金薄膜电极接触,即得到ZnO/InGaN异质结发光二极管。该发光二极管能够发出高效率高强度的黄绿光。

著录项

  • 公开/公告号CN111384218A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京航空航天大学;

    申请/专利号CN202010059164.7

  • 申请日2020-01-19

  • 分类号H01L33/26(20100101);H01L33/00(20100101);

  • 代理机构32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人柏尚春

  • 地址 210016 江苏省南京市秦淮区御道街29号

  • 入库时间 2023-12-17 10:03:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/26 申请日:20200119

    实质审查的生效

  • 2020-07-07

    公开

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