首页> 中国专利> 用于腔室产量提升的稀土基氧氟化物原子层沉积涂层

用于腔室产量提升的稀土基氧氟化物原子层沉积涂层

页面导航

摘要

物件包含具有涂层的主体。涂层包含具有O/F摩尔比的M‑O‑F涂层，此可就物件接触的后续将来处理定制。

1. 用于腔室产量提升的稀土基氧氟化物原子层沉积涂层 [P] . 中国专利： CN111164735B . 2021.04.02
2. 用于腔室产量提升的稀土基氧氟化物原子层沉积涂层 [P] . 中国专利： CN111164735A . 2020-05-15
3. -- METAL-OXY-FLUORIDE FILMS FOR CHAMBER COMPONENTS [P] . 韩国专利： KR20180123992A . 2018-11-20

机译： -用于腔室组件的金属-氧-氟化物膜
4. APPARATUS FOR MANUFACTURING FLAT PANEL DISPLAY DEVICE INCLUDING PROCESS CHAMBER, TRANSFER CHAMBER, ROBOT, MANY INNER ELEVATING PINS AND FOLD TYPE OUTER ELEVATING BAR [P] . 韩国专利： KR20040077422A . 2004-09-04

机译：用于制造平板显示器的设备，包括过程腔室，转移腔室，机器人，许多内部提升销和折叠式外部提升杆
5. Chamber for use with gas delivery apparatus for atomic layer deposition, includes chamber lid having bottom surface that is shaped and sized to cover receiving surface of substrate support [P] . 德国专利： DE20221268U1 . 2006-07-20

机译：与用于原子层沉积的气体输送设备一起使用的腔室，包括腔室盖，该腔室盖的底表面的形状和大小可覆盖基板支撑件的接收表面