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用于制造显示面板的新型掩模版及其参数确定方法

摘要

本申请公开一种用于制造显示面板的新型掩模版及其参数确定方法,该新型掩模版中,透光区域中包括衍射过渡区域,衍射过渡区域与遮光区域连接,衍射过渡区域中包括一组或多组间隔排列的过渡图形;过渡图形与透光区域和遮光区域相接的临界线平行;衍射过渡区域中被过渡图形覆盖的区域不透光。本申请在掩模版边缘的衍射过渡区域中设置不透光的过渡图形,过渡图形能增加掩模版的衍射区域宽度,调节多曝光区域的曝光量,使掩模版边缘的曝光剂量均匀分布,达到良好的曝光效果。通过增加过渡图形和边缘距离调整,达到较好的曝光剂量分布,同时还可以达到削弱设备步进精度3σ值对拼接影响的效果,提升了面板的显示效果。

著录项

  • 公开/公告号CN111258172A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN202010068083.3

  • 发明设计人 郝芸芸;韦亚一;董立松;陈睿;

    申请日2020-01-21

  • 分类号

  • 代理机构北京辰权知识产权代理有限公司;

  • 代理人付婧

  • 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号

  • 入库时间 2023-12-17 09:29:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/00 申请日:20200121

    实质审查的生效

  • 2020-06-09

    公开

    公开

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