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含改性多孔二氧化硅的抗反射涂料、制备方法及抗反射膜

摘要

本发明公开一种含改性多孔二氧化硅的抗反射涂料、制备方法及抗反射膜,抗反射涂料包括有以下重量份组分:12‑20重量份聚氨酯丙烯酸酯,15‑25重量份活性单体,1‑7重量份氟改性多孔二氧化硅,2‑4.5重量份光引发剂,50‑70重量份有机溶剂。本发明采用氟改性的多孔二氧化硅,减少多孔二氧化硅的团聚,同时也提供了多孔二氧化硅和树脂体系的润湿相容性,并且利用氟元素的表面定向迁移能力,在溶剂挥发产生的气流中,氟改性的多孔二氧化硅可以快速地覆盖在涂层表面,形成一层低折射率层。本发明通过低折射率的氟改性多孔二氧化硅定向覆盖涂层表面,1道精密涂布实现高折射率涂层和低折射率涂层设计,不需要工艺复杂和良率低的多道涂布。

著录项

  • 公开/公告号CN111253854A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广州四面体新材料科技有限公司;

    申请/专利号CN202010264701.1

  • 发明设计人 刘新;刘奕燎;方彬宗;

    申请日2020-04-07

  • 分类号

  • 代理机构厦门市新华专利商标代理有限公司;

  • 代理人吴成开

  • 地址 510000 广东省广州市经济技术开发区蓝玉四街九号科技园5号楼7楼北707-710单元办公卡位35号

  • 入库时间 2023-12-17 08:55:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09D175/14 申请日:20200407

    实质审查的生效

  • 2020-06-09

    公开

    公开

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