首页> 中国专利> 一种光谱选择性辐射红外隐身材料及其制备方法

一种光谱选择性辐射红外隐身材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种光谱选择性辐射红外隐身材料,依次包括基底、氮化铝层和介质层;所述介质层由若干交替排列的介质层A和介质层B组成;所述介质层A的材料为锗、碲、硅中的任一种,所述介质层B的材料为硫化锌、硒化锌、氟化镁、氟化钡、氟化钙中的任一种。该材料的制备方法:(1)对基底进行清洗并干燥;(2)采用磁控溅射或流延法,在基底表面制备一层氮化铝层;(3)采用磁控溅射或电子束蒸发,在氮化铝层先沉积一层介质层A,再沉积一层介质B,重复交替沉积介质层A和介质层B,直至设计的层数,完成红外隐身材料的制备。本发明的光谱选择性辐射红外隐身材料,兼顾了低发射率与辐射散热的要求,对更好的实现红外隐身具有重要的意义。

著录项

  • 公开/公告号CN111158069A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民解放军国防科技大学;

    申请/专利号CN201911366650.7

  • 发明设计人 刘东青;彭亮;程海峰;

    申请日2019-12-26

  • 分类号

  • 代理机构长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人魏龙霞

  • 地址 410000 湖南省长沙市开福区德雅路109号

  • 入库时间 2023-12-17 08:42:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B1/10 申请日:20191226

    实质审查的生效

  • 2020-05-15

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号