首页> 中国专利> 一种防离子轰击的离子源装置

一种防离子轰击的离子源装置

摘要

本发明涉及离子源技术领域,具体而言,涉及一种防离子轰击的离子源装置,包括:壳体、磁铁、导磁件、阳极件、石墨阴极、第一极靴和第二极靴。壳体开设有第一凹槽;第一极靴设置于第一凹槽内,磁铁设置于第一极靴的两端并贴合于第一凹槽的内壁,导磁件设置于第一极靴与磁铁所形成的第二凹槽内,阳极件设置于导磁件的内腔,第二极靴设置于导磁件与磁铁形成的承载平台上,石墨阴极包裹于第二极靴,石墨阴极用于阻挡从阳极件发射的电子对第二极靴进行轰击。如此,离子在阳极的加速下轰击产品时,石墨阴极能够阻挡从阳极件发射的离子对第二极靴进行轰击,从而有效的保护第二极靴,同时避免对环境造成污染。

著录项

  • 公开/公告号CN111192803A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都国泰真空设备有限公司;

    申请/专利号CN202010128512.1

  • 发明设计人 王伟;卢成;

    申请日2020-02-28

  • 分类号

  • 代理机构成都其高专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人贾波

  • 地址 611130 四川省成都市温江区成都海峡两岸科技产业开发园科林西路618号

  • 入库时间 2023-12-17 08:38:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J1/304 申请日:20200228

    实质审查的生效

  • 2020-05-22

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号