带电粒子阻挡元件、包括这样的元件的曝光装置以及使用这样的曝光装置的方法

摘要

本发明涉及用于将带电粒子束投影到目标上的曝光装置和方法。曝光装置包括带电粒子光学装置，该带电粒子光学装置包括用于生成带电粒子束的带电粒子源和用于阻挡来自带电粒子源的带电粒子束的至少一部分的带电粒子阻挡元件和/或限流元件。带电粒子阻挡元件和限流元件包括基本上平坦的衬底，该衬底设置有包含硼、碳或铍的吸收层。衬底还优选地包括用于透射带电粒子的一个或多个孔。吸收层被布置为与至少一个孔间隔开。