公开/公告号CN111095114A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-01
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201880059407.8
发明设计人 N·盖佩恩;
申请日2018-08-03
分类号
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人郑振
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-12-17 08:30:07
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-29
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180803
实质审查的生效
2020-05-01
公开
公开
机译: 对准互补衍射图对的方法以及相关的计量方法和装置
机译: 对准一对互补衍射图样的方法以及相关的计量方法和装置
机译: 与半导体晶片的光学检查相关联的衍射图案抑制方法,其中使用感光层以光学方式临时创建匹配的抑制图案