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公开/公告号CN111107257A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-05
原文格式PDF
申请/专利权人 成都德图福思科技有限公司;
申请/专利号CN202010066107.1
发明设计人 伍俊龙;刘从军;姚康;马士青;冉兵;郭正华;陈先锋;母德江;
申请日2020-01-20
分类号H04N5/225(20060101);H04N5/235(20060101);
代理机构
代理人
地址 610015 四川省成都市高新区世纪城南路599号6栋5层505号
入库时间 2023-12-17 08:21:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-29
实质审查的生效 IPC(主分类):H04N5/225 申请日:20200120
实质审查的生效
2020-05-05
公开
机译: 在具有浮雕图案结构的表面上,特别是在重复浮雕图案的表面上进行损坏的方法和装置。
机译: 具有浮雕在表面上的全息浮雕图案的信息存储介质及其制造方法。
机译: 一种通过x射线成像,浮雕图案表面的方法
机译:在透明电介质中激光引起的击穿过程中的高对比度周期等离子体图案形成
机译:纺锤形的脸部区域针对曲线图案进行了调整,在上部具有更高对比度的元素。
机译:通过对脉冲激光沉积膜进行微成型,对氧化锌基板进行表面浮雕微图案化
机译:通过激光诱导的背面湿法刻蚀对UV透明材料进行表面微加工
机译:分层递归图案组合中的子集选择和浮雕特征实例化,用于对几何图案进行建模。
机译:双酸刻蚀与化学修饰的亲水性双酸刻蚀植入物表面的界面生物力学特性:在Beagles中进行的实验研究
机译:通过RF等离子刻蚀对点图案化磁介质进行纳米图案化的CoPt / TiN膜
机译:通过光学非透明介质对蒸汽泡进行声学成像