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基于两次成像的X射线光栅相衬成像方法及系统、存储介质、设备

摘要

本发明提供基于两次成像的X射线光栅相衬成像方法,包括步骤:构建成像系统、第一次成像、第二次成像以及重建图像。本发明还涉及基于两次成像的X射线光栅相衬成像系统、存储介质以及电子设备。本发明利用光栅在光轴上移动进行两次成像,将两次成像的结果进行差分运算以及相位信息分离,得到分解出来的吸收像、折射像以及散射像以重建被扫描样品的图像;该方法免除了光栅的相位步进流程,大大提高了相衬成像的速度,降低了对机械部件的精度要求。

著录项

  • 公开/公告号CN111089870A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201911273773.6

  • 发明设计人 杜强;李铭;刘兆邦;张寅;杨晓冬;

    申请日2019-12-12

  • 分类号

  • 代理机构北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张川

  • 地址 215163 江苏省苏州市高新区科技城科灵路88号

  • 入库时间 2023-12-17 08:08:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/041 申请日:20191212

    实质审查的生效

  • 2020-05-01

    公开

    公开

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