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限制任意激光模板投影的激光曝光的系统和方法

摘要

本申请涉及限制任意激光模板投影的激光曝光的系统和方法。用于将提供最佳激光能量的激光图像投影到工作表面上的激光投影系统包括激光源和用于调制输出功率水平的电子电路。检流计组件包括扫描镜,该扫描镜由镜控制电路操作,以沿着扫描路径将激光束重定向到工作表面上以生成激光图像。检流计组件电连接到电子电路,用于向电子电路发信号通知扫描镜的角速度。控制器包括扫描路径输入模块,用于生成沿着扫描路径的扫描镜的角速度的模拟,以估计沿着激光束的扫描路径的区域的激光能量的集中度。电子电路响应于估计的激光能量集中度和扫描镜的角速度来调制激光束的能量集中度。

著录项

  • 公开/公告号CN111200232A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 维蒂克影像国际无限责任公司;

    申请/专利号CN201911133249.9

  • 发明设计人 K·D·鲁博;

    申请日2019-11-19

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人刘玉洁

  • 地址 加拿大安大略

  • 入库时间 2023-12-17 08:00:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-26

    公开

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