二维随机振动抛光机床及其抛光方法

摘要

本发明提供了一种二维随机振动抛光机床及其抛光方法，涉及抛光技术领域。该二维随机振动抛光机床包括第一振动组件、第二振动组件、抛光组件和控制器，控制器控制第一振动组件、第二振动组件能够以随机的频率分别驱动抛光组件沿X、Y方向往复振动。该抛光方法应用于上述抛光机，其中，第一振动组件和第二振动组件在控制器的控制下以随机的频率对工件进行抛光处理。该二维随机振动抛光机床的抛光组件在第一振动组件和第二振动组件随机频率的振动下，能够有效去除工件表面的中高频误差、缺陷以及改善其粗糙度，抛光效果好，得到工件品质高。