公开/公告号CN110926333A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-03-27
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;
申请/专利号CN201911194381.0
申请日2019-11-28
分类号G01B11/00(20060101);
代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;
代理人黎伟
地址 201203 上海市浦东新区良腾路6号
入库时间 2023-12-17 07:17:23
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-21
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/00 申请日:20191128
实质审查的生效
2020-03-27
公开
公开
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机译: 光学干涉图样强度分布电子扫描方法,涉及通过光栅来推断在相邻衍射阵列方向上行进的入射光束和不受光栅影响的另一入射光束
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