法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-01
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/683 申请日:20191031
实质审查的生效
2020-04-07
公开
公开
机译: 一种制备光电子半导体器件的方法,其中刻蚀具有gaas的最上层和包含在sicl4和ar中产生的等离子体的下层inp层的半导体本体
机译: 一种制造光电半导体器件的方法,其中,在SiCl4和Ar中产生的等离子体中蚀刻出具有GaAs顶层和包含InP的下层的半导体本体
机译: 一种制造光电半导体器件的方法,其中,在SiCl4和Ar中产生的等离子体中蚀刻出具有GaAs顶层和包含InP的下层的半导体本体