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通过监测UV出耦合的变化对UV应用的安全性改进

摘要

本发明提供一种系统(200),包括:(i)被配置为提供辐射(221)的光源(220),其中,辐射(221)至少包括UV辐射;(ii)包括辐射出射窗口(230)的波导元件(1210),其中,波导元件(1210)被配置为接收辐射(221)的至少部分并经由辐射出射窗口(230)将辐射(221)的至少部分辐照到波导元件(1210)的外部,并且被配置为在辐射出射窗口(230)处内反射辐射(221)的部分;(iii)光学传感器(310),其被配置为感测被内反射辐射(221)的内反射强度(I);以及(iv)控制系统(300),其功能性地耦合至所述光学传感器,并且被配置为根据达到内反射强度(I)随时间的降低的预定第一阈值来降低辐射(221)的强度。

著录项

  • 公开/公告号CN110709107A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 皇家飞利浦有限公司;

    申请/专利号CN201880034043.8

  • 发明设计人 B·A·索泰斯;

    申请日2018-05-17

  • 分类号A61L2/10(20060101);B63B59/04(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人孟杰雄

  • 地址 荷兰艾恩德霍芬

  • 入库时间 2023-12-17 07:17:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61L2/10 申请日:20180517

    实质审查的生效

  • 2020-01-17

    公开

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