公开/公告号CN110922188A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-03-27
原文格式PDF
申请/专利权人 昊石新材料科技南通有限公司;
申请/专利号CN201911214734.9
申请日2019-12-02
分类号C04B35/565(20060101);C04B35/10(20060101);C04B35/80(20060101);C04B35/622(20060101);
代理机构11616 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司;
代理人李朦
地址 226300 江苏省南通市南通高新区金源路111号
入库时间 2023-12-17 06:55:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-21
实质审查的生效 IPC(主分类):C04B35/565 申请日:20191202
实质审查的生效
2020-03-27
公开
公开
机译: 用于低介电常数抗反射涂层的碳化硅沉积
机译: 用作低介电常数抗反射涂层的碳化硅及其沉积方法
机译: 用作低介电常数抗反射涂层的碳化硅及其沉积方法