法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-14
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/11 申请日:20171220
实质审查的生效
2020-03-06
公开
公开
机译: 用于制造相同化合物的组合物和方法,用于形成的光学组分的组合物,用于光刻的膜形成组合物,抗蚀剂组合物,用于形成抗蚀剂图案的方法,用于制造辐射图案的组合物,用于制造膜的胶片,用于制造薄膜的方法,用于胶片的方法形成下层膜,用于光刻的下层膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和精制方法
机译: 成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法
机译: 化合物,树脂及其纯化方法,用于光刻的下层膜形成材料,下层膜形成组合物,下层膜,抗蚀剂图案形成方法和电路图案形成方法