首页> 中国专利> 形成下层膜的组合物、图案形成方法及形成图案的下层膜形成用共聚物

形成下层膜的组合物、图案形成方法及形成图案的下层膜形成用共聚物

摘要

本发明提供一种形成下层膜的组合物,该形成下层膜的组合物的材料对有机溶剂的溶解度较高,可通过在大气下且相对低温的加热处理而形成难以破裂的下层膜,在形成有下层膜的情况下对于有机溶剂的涂布膜残留率较高。本发明是一种形成下层膜的组合物及图案形成方法,该形成下层膜的组合物包含共聚物及有机溶剂,共聚物具有聚合部a及聚合部b,聚合部a具有糖衍生物部,糖衍生物部为五碳糖衍生物部及六碳糖衍生物部中的至少一者,聚合部b不具有糖衍生物部,该形成下层膜的组合物为用于图案形成的下层膜形成用。

著录项

  • 公开/公告号CN110869851A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 王子控股株式会社;

    申请/专利号CN201780092950.3

  • 发明设计人 服部贵美子;森田和代;

    申请日2017-12-20

  • 分类号

  • 代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人赵曦

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 06:51:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/11 申请日:20171220

    实质审查的生效

  • 2020-03-06

    公开

    公开

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