一种具有微纳结构的氧化锌薄膜材料的制备方法

摘要

本发明涉及半导体材料制备技术领域，具体为一种具有微纳结构的氧化锌薄膜材料的制备方法，包括镀膜、预烘、匀胶、前烘、曝光、显影与清洗、后烘、腐蚀、高温退火氧化共九个步骤。本发明通过合理运用光刻技术和真空蒸镀技术，在硅片表面先制作出圆柱状锌薄膜阵列，然后在自然空气环境下，将硅片放入高温退火炉中，再向高温炉内的石英管腔体注入空气对锌薄膜进行高温氧化，从而制备出氧化锌薄膜材料。本方法与现有技术相比具有成本低廉，制备过程容易控制等优点。