微影设备及微影设备的操作方法

摘要

一种微影设备及微影设备的操作方法。本揭露描述处理半导体制造设备中的流体泄漏的泄漏处理装置与方法。半导体制造设备可包含微影设备，此微影设备具有配置以承托基材的固定座、以及配置以配送涂料于基材的一或多个区域上的光阻进料器。光阻进料器可包含配置以输出涂料的光阻筒、与光阻筒流体连接的导管、以及设于固定座之上的流体泄漏处理装置，其中导管可配置以流体传输涂料并循环冷却剂，流体泄漏处理装置可配置以检测来自导管的流体泄漏。