表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜

摘要

本发明提供表面保护薄膜用基材、该基材的制造方法、使用该基材的表面保护薄膜。提供具有优异的挠性或耐弯折性、并且可良好地抑制光学检查时的漏光、着色及彩虹状不均匀的表面保护薄膜用基材。本发明的表面保护薄膜用基材由含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜构成，面内相位差Re(550)为30nm以下，MIT试验中的直至断裂为止的弯折次数为500次以上。本发明的表面保护薄膜用基材的制造方法包括：将含有含芴环聚酯与芳香族聚碳酸酯的聚合物合金的薄膜形成材料成形为薄膜状；及对成形得到的薄膜进行逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。