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波导集成的GeSn光电探测器及其制造方法

摘要

本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种波导集成的GeSn光电探测器及其制造方法。所述波导集成的GeSn光电探测器,包括GeSnOI衬底以及均位于所述GeSnOI衬底表面的光纤‑波导模斑耦合器、SiN光波导和器件结构;所述器件结构,包括沿所述GeSnOI衬底的轴向方向设置于所述GeSnOI衬底上的GeSn吸收层;所述SiN光波导的输出端沿平行于所述GeSnOI衬底的方向与所述GeSn吸收层的中心对齐连接;所述光纤‑波导模斑耦合器包括与所述SiN光波导的输入端连接的SiN反锥型波导,且所述SiN反锥型波导与所述SiN光波导同层设置。本发明能够有效避免光探测器速率与量子效率间相互制约的问题,提高了GeSn光电探测器的灵敏度以及稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN110896112A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海新微技术研发中心有限公司;

    申请/专利号CN201810958988.0

  • 申请日2018-08-22

  • 分类号H01L31/103(20060101);H01L31/0312(20060101);H01L31/0232(20140101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构31294 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人孙佳胤;陈丽丽

  • 地址 201800 上海市嘉定区城北路235号3号楼

  • 入库时间 2023-12-17 06:00:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/103 申请日:20180822

    实质审查的生效

  • 2020-03-20

    公开

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