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一种微焊点的镀镍层界面反应及镍层的消耗规律的方法

摘要

本发明公开了一种微焊点的镀镍层界面反应及镍层的消耗规律的方法,涉及镀镍层技术领域;它的方法如下:将三种钎料在镍层上进行焊接,通过控制液态停留时间,等温时效时间,对镍层消耗量,界面IMC的厚度,以及时效后焊点的剪切性能进行测试,观察焊点的微观组织及剪切断口形貌,分析镀层消耗的机理,推导镀镍层消耗的规律,从而合理制定钎料的镍层厚度;本发明根据镍层的消耗规律,为不同钎料制定镀层厚度,提高焊点的可靠性;通过研究液态停留时间,等温时效时间对3种不同钎料的镀镍层消耗规律,以及界面IMC的生长速率,焊点时效后的剪切性能影响,预测焊点的镀镍层厚度消耗趋势,从而合理制定不同钎料相应的镀镍层厚度。

著录项

  • 公开/公告号CN110666280A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨理工大学;

    申请/专利号CN201911047291.9

  • 发明设计人 孙凤莲;樊瑞;

    申请日2019-10-30

  • 分类号B23K1/20(20060101);B23K1/08(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路52号

  • 入库时间 2023-12-17 05:35:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):B23K1/20 申请日:20191030

    实质审查的生效

  • 2020-01-10

    公开

    公开

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