TALBOT-LAU X射线源和干涉测量系统

摘要

本公开涉及TALBOT‑LAU X射线源和干涉测量系统。提供了一种x射线源，以及采用该x射线源的x射线干涉测量系统。x射线源包括靶，所述靶包括衬底和多个结构。衬底包括导热的第一材料和第一表面。多个结构位于第一表面的至少一部分上或嵌入在第一表面的至少一部分中。结构彼此分开并与衬底热连通。结构包括与第一材料不同的至少一种第二材料，该至少一种第二材料被配置为在由具有0.5keV至160keV的能量范围内的能量的电子照射时生成x射线。x射线源还包括电子源，其被配置为生成电子，并且引导电子以撞击靶并且沿着相对于第一表面的该部分的表面法线的非零角度处的方向照射至少一些结构。