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一种提高光提取效率的紫外发光二极管芯片及其制作方法

摘要

本发明提出了一种提高光提取效率的紫外发光二极管芯片及其制作方法,其中紫外发光二极管芯片包括n型半导体层、锥形坑准备层、有源层、p型半导体层、p型电极、反射层、键合层、n型电极、基板;其中:锥形坑准备层位于n型半导体层之上,有源层位于锥形坑准备层之上,p型半导体层位于有源层之上,n型半导体层上形成有n型电极层。本发明的优点在于:通过在有源层中形成六方多面结构的锥形坑,改变有源层中TM模偏振光的出光方向,使TM模偏振光不需在接近有源层附近进行长路径传播;同时调节有源层中锥形坑的开口大小和密度使有源层连接锥形坑的平台区的投影面积控制在有源区总投影面的30%以内,提高紫外发光二极管的光提取效率。

著录项

  • 公开/公告号CN110718614A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江西兆驰半导体有限公司;

    申请/专利号CN201810765845.8

  • 发明设计人 武良文;

    申请日2018-07-12

  • 分类号H01L33/24(20100101);H01L33/32(20100101);H01L33/06(20100101);H01L33/00(20100101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 330000 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区高新二路18号创业大厦503、515室

  • 入库时间 2023-12-17 05:26:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-21

    公开

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