基于量子点的光学元件亚表面缺陷深度检测方法

摘要

本发明涉及基于量子点的光学元件亚表面缺陷深度检测方法。该方法包括：寻找具有强三维量子限域效应的量子点标记物；对量子点标记物的表面活性、荧光光谱稳定性以及荧光效率等特性表征，分析该量子点标记物的加工工艺适应性和污染残留可去除性；将量子点标记物添加到光学元件产生亚表面缺陷的加工工艺中，使用特定波长的激光激发元件表面及亚表面各类缺陷中的量子标记物，使其产生荧光反应；通过检测亚表面缺陷与表面重沉积层的荧光光谱，实现亚表面缺陷的高效标记；在亚表面缺陷信号和表面重沉积层荧光信号分离的基础上，利用三维立体视觉技术实现表面缺陷深度信息的获取。本发明实现高效、低成本的亚表面缺陷深度信息检测。