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基于红外及红色可见光应用的半导体发光结构及制作方法

摘要

本发明提供了一种基于红外及红色可见光应用的半导体发光结构及制作方法,通过所述P型DBR层配合能穿透不同波段的外延衬底的应用,同时,将所述P型DBR层设置于所述P型半导体层的水平表面,相比于传统的红光芯片将DBR层设置在衬底和N型半导体层之间,能增加半导体发光结构的反射面积,进而提高其发光亮度,且能同时适用于红色可见光和红外光的LED芯片;其次,当将本发明所提供的半导体发光结构应用于红色可见光LED芯片时,通过将其衬底设为GaP衬底材料,在增加半导体发光结构的反射面积的同时,简化了产品的工艺,并降低产品成本,避免了在砷化镓材料衬底上设DBR层时,必须通过键合及衬底转移工艺才能解决的吸光问题。

著录项

  • 公开/公告号CN110729384A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门乾照半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN201911212410.1

  • 发明设计人 王涛;许晏铭;彭钰仁;

    申请日2019-12-02

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 361001 福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区翔天路267号

  • 入库时间 2023-12-17 05:22:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/10 申请日:20191202

    实质审查的生效

  • 2020-01-24

    公开

    公开

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