利用热显影增强电子束光刻胶对比度的制备高密度平整图形的方法

摘要

本发明属于半导体及纳米加工技术领域，具体为一种利用热显影增强电子束光刻胶对比度的制备厚胶高密度光滑图形的方法。本发明包括：对衬底表面进行清洗和烘干处理；在衬底上旋涂光刻胶；对所述光刻胶进行前烘和电子束曝光；对所述曝光后的光刻胶进行显影处理，显影过程中实施加温和超声振荡；对显影后的光刻胶进行定影和干燥处理。本发明方法对于电子束光刻过程中的邻近效应有明显的抑制作用，有利于使用低灵敏度光刻胶制备厚胶中高密度光滑图形，能够用于高精度纳米器件结构的制备。