首页> 中国专利> 用于消除或预防痤疮的包含吡非尼酮和改性二烯丙基二硫化物氧化物(M-DDO)的半固体局部组合物

用于消除或预防痤疮的包含吡非尼酮和改性二烯丙基二硫化物氧化物(M-DDO)的半固体局部组合物

摘要

本发明涉及一种半固体局部组合物及其制备方法,所述半固体局部组合物包含吡非尼酮和抗微生物/防腐剂(诸如,改性二烯丙基二硫化物氧化物(M-DDO)),该组合物优于本领域中已知的经皮递送的其它药物形式,其可在痤疮和痤疮后损伤的预防、治疗和复原中用作抗纤维化、抗炎和防腐剂。所述组合物还可用于减少皮肤发红、阻止痤疮新爆发的形成、复原已存在的爆发和使因痤疮损害的皮肤再生。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-24

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):A61K31/255 申请公布日:20150204 申请日:20130227

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-03-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61K31/255 申请日:20130227

    实质审查的生效

  • 2015-02-04

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号